Moderný Šanghaj

Plagát predstavuje vizuálno-typografické riešenie slovného spojenia „Moderný Šanghaj“ v jeho význame. Usporiadanie typografických prvkov, štylizácia a výrazné farebné prevedenie podporuje konečný výsledok vizuálneho stvárnenia. Plagát bol vystavený na medzinárodnej výstave plagátov v rámci výberu 100 najlepších svetových dizajnérov pod názvom „Shanghai Design 10×10” v Čínskom múzeum umenia v Šanghaji, Číne v roku 2021.